오버레이 엔지니어
Scanner 장비의 Overlay 데이터를 해석·최적화하고, 공정 변동이 Overlay에 미치는 영향을 분석합니다. Overlay 예측 모델 개선을 위한 도메인 지식을 함께 만들어갑니다.
주요 업무
- 반도체 Lithography 공정의 Overlay 관련 문제 정의 및 분석
- Scanner 장비의 Overlay 데이터 해석 및 최적화
- Overlay 예측 모델 개선을 위한 도메인 지식 제공
- 공정 조건 변경 및 장비 보정 등의 영향 분석
자격 요건
- 반도체 제조(특히 리소그래피) 및 장비 관련 실무 경험
- Scanner 장비의 Alignment·Leveling 매커니즘 및 데이터 구조 이해
- Overlay control logic (APC/R2R) 이해 및 경험
- 원활한 커뮤니케이션 및 협업 역량
우대 사항
- Scanner 데이터 분석 경험
- Overlay 데이터 분석 경험
전형 절차
- 01서류 전형
- 02면접 전형
- 03합격자 발표