공정의 가장 어려운 문제부터
현장에서 시작된 질문을 연구로 풀고, 결과를 다시 제품과 현장으로 가져갑니다.
발표 논문
SPIE Advanced Lithography 게재 논문
- Virtual metrology for improving overlay control capability in high-NA half-field exposure2026년 10월 23일
- Proactive yield maximization in photolithography via human-in-the-loop AI on an on-premise big data platform2026년 4월 10일
- Hybrid machine learning framework for systematic optimization of overlay key positions2026년 4월 10일
- Domain knowledge-driven fusion machine learning for overlay prediction enhancement2026년 4월 8일
- LLM-based overlay issue classification and solution optimization in semiconductor manufacturing2025년 4월 22일
보유 특허
반도체 공정·계측·RCA 영역의 특허 포트폴리오
- 미국
- 3
- 한국
- 7
2026년 10월 28일 기준
현장의 과제, 함께 정리해 드립니다.
구체적인 데이터가 준비되지 않아도 괜찮습니다. 맞춤 적용 시나리오로 회신드립니다.