세미에이아이, KISM 2026서 'Agentic AI 기반 폐루프(Closed-Loop) 반도체 제조' 초청강연

반도체 제조 AI 기업 세미에이아이(SemiAI)의 지태권 대표가 11월 12일 부산 파라다이스호텔에서 열린 '제5회 국제반도체제조기술학술대회(KISM 2026 BUSAN)'에서 초청강연을 했다.

KISM 2026은 'Beyond Scaling: Smart Manufacturing for AI Era'를 주제로 11월 9일부터 13일까지 열렸다. 지 대표는 'Advanced Metrology & Inspection, Process Diagnostics & Control, and Yield Management Ⅴ' 세션에서 'Agentic AI for Closed-Loop Semiconductor Manufacturing: Autonomous Diagnostics, Virtual Metrology, Process Control, and Yield Optimization'을 주제로 발표했다. 이번 발표는 서정훈, 김정석, 진민정, 정지훈 연구원과 함께한 연구다.

지 대표는 서브 나노미터 수준의 공정 제어가 이제 하드웨어만의 문제가 아니라 정보와 의사결정의 문제라고 설명했다. 대부분의 팹에서는 진단, 계측, 공정제어, 수율 관리가 서로 다른 시스템과 팀에 나뉘어 있어, 서로 연결된 의사결정이 수작업으로 넘겨진다는 것이다.

발표에서는 2024년부터 2026년까지 발표된 논문 기반 요소 기술을 소개했다. 물리 지식을 결합한 오버레이 예측 모델 PRISM은 바이모달 변형 스트레스 테스트에서 선형 회귀 대비 RMSE를 약 3배 낮췄고, LLM 기반 오버레이 이슈 진단은 5,000건 중 4,760건(95%)을 정확히 진단했다. 엔지니어가 판단에 참여하는 Causal-RAG 원인분석 에이전트는 Top-5 근본 원인 검색 정확도 91%를 기록했다.

이어 이 요소 기술들을 데이터, 진단, 예측, 제어, 수율 다섯 개 에이전트로 묶는 폐루프 프레임워크를 제시했다. 각 에이전트는 근거와 불확실성을 공유하고, 결정론적 오케스트레이션 계층이 검증 게이트, 엔지니어 승인, 감사 기록을 관리한다. 자율화는 관찰(L0), 추천(L1), 감독하의 실행(L2), 제한된 자율(L3), 자기최적화 팹(L4, 연구 목표)의 단계로 나눠 진행한다. 현재는 에이전트가 근거와 함께 추천하고 엔지니어가 결정하는 L1 단계이며, L2는 개발 중이다. 평가는 진단 타당성, 예측 보정, 제어 안정성, 실제 수율 영향의 네 가지 축으로 한다.

지 대표는 "AI는 엔지니어를 대체하지 않습니다. 엔지니어를 중심으로 루프를 닫아 줄 것입니다"라고 말했다.

한편 KISM 2026은 한국반도체디스플레이기술학회(KSDT)가 주최했다. 세미에이아이는 2024년 설립돼 서울과 미국 멘로파크에 거점을 두고 있다. 본 연구의 일부는 중소벤처기업부 기술개발사업의 지원을 받아 수행됐다.